半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
顶目大环境
该企业公司专科生产方式半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,废水办理工学艺氟浓度值相当高且化学成分僵化。同一办理工学艺效果好不安全稳定,氟化物排放物会时常超预算。顶目创业2300万元项目建设专做办理设施设备,制作办理专业能力500吨/天。
焦化废水有效成分及源于
废液主要的来产量设施设备刷洗和尾气洗涤剂:
氟铁离子溶液浓度:1500-3500mg/L
含浓盐酸根正离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含微量分析钨、钼等铝合金要素
治理 生产技术流程步骤
而对高浓硫酸浓度的特点,选用"采和+三级乳浊液+膜处置"加工:
废气征集池:类型征集不相同含量废气
采和反應池:分一阶段污泥脱水氢钝化钠和氢钝化钙,操控之后pH至7.5-8.
斜板沉积池响应池:加药PAC和PAM加强沉积使用效果
斜管析出池:便捷固液离心分离
多有机溶剂滤水器:我们要除这些细微科粒
反渗透装置到系统软件:层次脱盐和除氟
淤泥溶缩过滤现象体系:抽滤过滤现象后淤泥土石方工程靠谱妥善处理
一直在线污染监测系统化:实时交通把控氟铁离子氨水浓度和pH值
后面疗效
处里体统加载数据资料:
接触不良氟阴阳离子均衡酸度:2800mg/L
冒水氟阳离子盐浓度:3.2mg/L(一般)
氟避开率:99.9%综上所述
水回收利用率:高达65%
体系重新化阶段高,满足废气治理 利润变低30%,年回收公司氟化钙副物料约400吨。