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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作厂地处华南城市,其主要产出8厘米半导体器件晶圆,平均废污水污染物量约800吨。会因为产出方式中适用过多氢佛酸实行晶圆蚀刻,造成 废污池里氟化物盐浓度达到了200-300mg/L,远超的国家污染物规范(10mg/L以上)。 废污水有效成分及特征 废水处理方法主耍根据以下三个方面: 晶圆蚀刻工步 :含高溶度氟化物(HF)、氰化钠及少量出高价属 物理机械装备拋光(CMP)废气 :含nm级硅小粒、有机物络合剂 的设备洗掉废水处理 :含异丙醇、化学需氧量等充分物 整理制作工艺步奏 进行"无机化学水解+混泥土水解+程度过滤程序"3级加工处理系统软件: 第一处理 :加药氯化钙和氢阳极氧化钙,建成氟化钙悠长岁月中,氟化物删去率达85% 中级整理 :获取PAC(配位聚铝)和PAM(高密度聚乙烯酰胺),的还原橡胶胶体部分态废弃物物 两级正确处理 :可以通过多物料过滤水器和化学活化炭吸出,有水出氟化物溶度安稳在8mg/L一些 关键的的设备是指:pH一键设定模式、斜管石雕文化调节池、板框厢式压滤机(污泥干化烘干)。 以后特效 投资项目运营五年监控数据信息显示信息: 氟化物的平均渗透压:7.2mg/L(降到国度规定) COD除去率:92% 废水含水量率:≤65% 年回收处理氟化钙副物料约150吨,改变网络秸秆综合灵活运用灵活运用

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